星期二,2017年10月24
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功率器件
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设备名称:金属腐蚀台
适用对象:2-12inch 硅晶片

 

项目

                            数        据

适用对象

硅晶片

2-12inch

25 Pcs/cassette

1 cassette/ Batch  Or  2 cassette/ Batch;

控制模式

手动控制模式        自动控制模式

设备用途

用来将4、5、6英寸硅晶片化学腐蚀和清洗的设备。

制程应用

※ 正面金属前清洗工艺;
※ Ag表面金属腐蚀工艺;
※ Al表面金属腐蚀工艺;
※ Ti表面金属腐蚀工艺;
※ Ge表面金属腐蚀工艺;

基本规格

机台封面

聚丙烯磁白PP板材(厚度≧10mm)  

机台主机强度结构

整体骨架表面喷涂处理        

机台视窗

透明、抗靜電之聚氯乙烯PVC(厚度≧5mm) 

选配模块

※  蚀刻液在线加热(恒温)系统;
※  蚀刻液循环过滤系统;
※  硅晶片旋转系统;
※  漏液检测系统;
※  水阻率监测系统;
※  自动供给CDS (微补)系统;
※  废液回收系统;
※  可结合客户端通讯协定资料储存、CIM系统、资料分析储存建立管理;
※  纯水节省功能:纯水排放分为回收水管路和废水排放管路,通过程序可以设定回收纯水的倒洗开始周期、以及开始回收的任意时间节点,待料时慢速溢流流纯水实现回收使用。

排风系统

排风强劲合理设计,为了排风效果达到最佳,排风通道内设有风量导流板,为了方便操作人员根据情况及时调节排风量,操作人员可小范围调节机台排风背板上的可拆卸式排风栅栏再配合机台视窗上的可调进气模块使用达到最佳使用效果;

机械臂装置

Robot的工艺路径种类

N种(设备出厂前载入PLC内);

机械手传送定位精度

≤0.3mm;

机械手传动预估速度

垂直升降速度不小于4000mm/min,水平移动速度不小于6000mm/min;

机械臂走向

前后位移一对一;
转向、前后、左右、上下位移一对四;
全程转向左右、前后、上下位移一对多槽等;

制程控制

PLC控制方式;

操作界面

全图形化中文彩色人机界面(10.4彩屏);

槽体数量

根据制程工艺要求选择定制;

设备制造

北京华林嘉业科技有限公司(CGB);

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