星期二,2017年10月24
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集成电路制造
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设备名称:硅片显影机
适用产业:半导体照明(LED)、半导体材料、半导体分立器件、
                    集成电路、MEMS、有机发光二级管(OLED)等;
控制模式:手动控制模式、自动控制模式;
制程应用:湿法清洗显影制程;

 

项目

                                                                             数     据

适用对象

硅片 、蓝宝石基片

2-12inch

  2-4 cassette/ Batch,25 Pcs/cassette;

基本规格

机台封面

聚丙烯磁白PP板材(厚度≧10mm)     Or    China  SUS板材(厚度≧2mm);

机台主机强度结构

整体骨架表面喷涂处理              Or    China  SUS矩形材(厚度≧2mm);

机台视窗

透明、抗靜電之聚氯乙烯PVC(厚度≧5mm)  Or    China  钢化玻璃(厚度≧5mm);

选配模块

※  显影液恒温系统;
※  显影液循环过滤系统;
※  全自动供液系统;
※  消防系统;
※  可结合客户端通讯协定资料储存、CIM系统、资料分析储存建立管理;

结构构造

※  设备主体;※  传送系统;  ※ 混液系统;  ※  循环系统;
※  过滤系统;※  排风系统; ※  电气控制系统;

整体布置

※  设备前侧上料,前侧下料;
※  本体上面装有控制面板,每个工艺过程可独立控制;
※  设备采用密封结构,配有可拆卸的活动门;
※  本体后(上)方顶部设有风道;
※  本体下方为管路区;

功能描述

动作程序要求:原点上料,按启动,机械手旋转搬运cassette至显影槽(POS.1)液体内,上下运动、频率、时间可调,
漂(显影液)时间到,旋转搬运cassette至QDR槽(POS.2)内冲水漂洗,静止等待(或上下运动、频率可调)时间可
调,清洗时间到,报警提示(此时花篮在水内不升起)按复位,机械手旋转到QDR槽(POS.2)上方后最后取cassette

机台特点

※  清洗工艺自动补药液保证了工艺槽在运行过程中浓度的稳定性;
※  QDR冲洗模块非常见排序式,可根据制程工艺设定;
※  管路系统、电气控制系统、伺服电机及丝杠导轨等关键核心部件均采用进口标准产品,配置模组化,维护保修便利,
非期货库存品工厂内均建立安全存量;
※  全程自动化控制,几何曲线加减速运动,冲击小、运动平稳,机械臂定位精度高;
※  多级别用户工艺数据库,可供用户使用和存储;
※  作业区内有害气体多种安全主动及被动保护相结合,保证操作人员作业环境及人身安全;
※  客制化设计能力佳,高设计能力满足客户制程工艺需要;

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