特徴：

メイン生産ライン：H2O超音波水槽1、界面活性剤槽2、H2O超音波水槽3、界面活性剤槽4、H2O超音波水槽5、HCL槽6、H2O超音波水槽7，計7つフローです。本設備電気コントロール部分の肝心な部品は上質な輸入品を採用し、性能が良く、使用寿命が長い。裏面に吸気口を設置します。空気汚染を防止するため、ユーザーが排気パイプを外付けする必要があります。本設備はタッチパネル及びPLCコントロールの全自動コントロールシステムです。作業者は洗浄カセットをインローダに置いて、PLCがコントロールするロボットアームでカセットを各位置に搬送し、事前にインストールしたプログラムにてwaferの各プロセス処理を実施します。