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单片湿法制程设备

单片去胶清洗机

特点:

生产主线为:该设备主要由湿法清洗工艺模块+主轴旋转系统模块、清洗臂扫描旋转系统模块、N2吹干系统模块、液体供应系统模块、空气净化(配带离子风机)及静电去除系统模块、安全消防系统模块、电气控制系统模块等组成。本设备电器控制部分关键件均采用进口优质件,性能可靠,使用寿命长;顶部及背部设有吸风口,为防止污染空气,用户需外接风管抽风。本机台是一个人机界面(触摸屏)加PLC控制的半自动控制系统,操作者只须将清洗工件放置于湿法清洗单元模块夹具上,按照事先输入的程序对工件进行各工艺处理。

清洗能力: 8 inch  wafer;


产品详情

产品详情:

项目

说明

机台型号

CGB-SSC-XX;

机台重量

XX

清洗能力(采购方提供cassette样品)

8 inch  wafer;

处理方式

单片处理   人工手动取放片,干进干出;

产能要求

湿法制程清洗工艺XXXX    Pcs /月(按照<30min/run,50PCS/Run,22小时/天,26天/月计算,预估值);

设备形式(洁净度:千级洁净室)

室内放置型;

机台封面、主要结构材质

聚丙烯磁白PP 10T();

SUS304单镜面板材1.5T(√);

机台视窗

材质

透明、抗靜電之聚氯乙烯PVC  5T ();

SUS304单镜面板材及钢化玻璃   5T(√); 

模式

上下举升式();

左右推拉式(√);

机台主机强度结构

整体SUS304不锈钢结构骨架;

防漏盘

材质

聚丙烯磁白PP板材;

模式

分体式  每侧尺寸比设备本体长50mm;

漏液检测装置

材质

防腐材质;

点式

单点式;

其它

水平调整

通过地脚调整设备水平;

设备移动

设备装有树脂脚轮以备设备移动之用;

台面板

材质

¢12mm左右洞洞结构   聚丙烯磁白PP板材(√);

¢12mm左右洞洞结构   SUS304单镜面板材();

模式

可拆式(√);

一体式();

排风系统

排风口位置

设备后顶部(√);

设备后部();

排风通道结构

1) 排风强劲合理设计,为了排风效果达到更佳,排风通道内设有风量导流板;

2) 为了方便操作人员根据情况及时调节排风量,操作人员可小范围调节机台排风背板上的可拆卸式(以便清除可能产生的结晶)排风栅栏再配合机台视窗上的可调进气模块使用达到更佳使用效果;

3) 设备排风通道的底部带排液管,冷凝回流的废液通过管道排放至机台U型湿区内与QDR排出的废水混合稀释并排放至机台后方厂务废水专用管道内;

机台的电控系统

安装在机体的后部; 触摸屏及电源控制开关、照明等安装在设备正前方。各槽体的工艺过程均由PLC、触摸屏、温控器、传感器等组成。设备具有上电手动操作复位功能。每个机台可存储X套工艺配方,操作者可通过触摸屏调用预先编制好的工艺配方。软件系统具有工艺配方参数设定、手动维护、自动运行、状态监控等画面。软件具有报警信息、历史记录、维护信息等系统记录。软件系统具有3级加密进入权限设置:分别为设备作业员、设备工程师、工艺工程师,不可混用权限;

规格特点:
01)工艺说明: 人工传动,手动方式实现传送工件;
02)全程自动化控制,工艺过程中没有人工干预,保证产品性能的一致性;
03)旋转主轴及扫描清洗臂旋转辅轴移动提升均采用日本伺服马达,闭环控制,定位精度≤1mm,可靠性高;

04)具有系统急停开关和旋转主轴马达电机自动过载保护等多重保护,确保操作者的安全;
05)旋转主轴及扫描清洗臂旋转辅轴运行平稳,带有过载和过流保护;

06)优化配管设置,节约药液消耗量;

07)工艺柔性化设计,工艺更改方便迅速;

08)多工艺数据库,可供用户使用和存储;

09)整机在使用、运行过程中平稳、可靠、不产尘、无溢出油污等,需润滑的零件必须密封处理,定期更换润滑油;

10)整机采用全封闭设计。设备运行且操作、维护和维修方便;

11)整机耐腐蚀溶液及挥发气体的腐蚀,电器元件正常安全使用;

12)机台设有紧急停止回路(EMO急停按钮),并按照标准设置接地保护断路器;

13)整机前后区隔离,底板倾斜设计,便于排液,最低处设有漏液报警,区域均设水枪,确保漏液及时冲洗;

14)清洗槽体及管路配有明显标识或防错设计,防止溶剂混用;

15)设计合理化的排风管路,使腐蚀液挥发气体的污染小化;

16)各种工艺参数超限、非正常加工处理条件、非正常操作、缺液、满液等异常检测告警系统和安全保护装置;

17)生产日志、故障日志等记录可定制保存时间,长期保持备查;操作简单友好;工艺参数数显检测、报警控制分等级、严重紧急情况、超限等;故障提示导寻,故障原因明显易查;

18)软件系统采用多层级、多进程、单元模块化设计,单一单元模块故障不影响其他单元模块工艺加工;

19)DIW枪及N2枪各1套;

20)机台总进水口处安装水阻计监测装置(带信号报警装置),并加装0.2us过滤器;

21)机台总进口处(N2或CDA)安装有压力监测装置(带信号报警装置);

22)机台顶部配有10级FFU;

23)机台顶部配有静电消除装置;