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单片湿法制程设备

刷片机

全自动刷片机主要用于6、8英寸衬底片及外延片的过程清洗,去除晶圆上残留的物理颗粒。设备主要由(浸泡)上料台模块、对中翻转模块、刷洗工艺腔体、下料台模块、可横向移动双臂机械手模块、供排液系统、排风系统、中央控制系统等组成。刷洗工艺腔体具备Brush刷洗、高压二流体清洗、氮气吹干、离心甩干等功能。减少人为因素对清洗过程的干扰,保证片间均匀性,满足晶圆表面颗粒度目标要求。


产品详情

特点&优点 

u  设备可实现6、8英寸晶圆兼容

u  设备能实现晶圆正反面的自动翻转与清洗;

u  设备可选择配置有湿进干出或者干进干出;

u  每个腔室采用独立空间,避免交叉污染;

u  腔室流场控制技术,保证废气及时排出;

u  专利刷头设计,有效避免晶圆划痕的产生;

u  刷头润湿及自清洁技术,避免引入颗粒;

u  设备集成4套、6套刷洗腔体,产能最高可达80片/小时;

u  SiC片表面颗粒去除能力可达到particle(@0.3um)≤5ea;

u  多级软硬件安全互锁,操作安全

u  软件及硬件模块化设计

u  实时记录生产数据,多种数据分析功能

u  工艺柔性化设计,工艺更改方便迅速

u  设备占地面积小

u  支持扩展SMIF自动传输

u  软件支持SECS GEM接口,支持EAP  MES等功能(选配)

u  多路视频监控和录像功能(选配)

u  静电消除功能(选配)

u  优化配管设置,节约DIW消耗量

u  多工艺数据库,可供用户使用和存储

u  自主知识产权的软件系统

u  拥有多项软件著作权

u  PC上位机和PLC触摸屏的控制和人机交互界面

u  系统自动排程,多工位并发处理,高效率运行

u  工艺预置,过程数据记录和生产管理

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