全自动刷片机主要用于6、8英寸衬底片及外延片的过程清洗,去除晶圆上残留的物理颗粒。设备主要由(浸泡)上料台模块、对中翻转模块、刷洗工艺腔体、下料台模块、可横向移动双臂机械手模块、供排液系统、排风系统、中央控制系统等组成。刷洗工艺腔体具备Brush刷洗、高压二流体清洗、氮气吹干、离心甩干等功能。减少人为因素对清洗过程的干扰,保证片间均匀性,满足晶圆表面颗粒度目标要求。
特点&优点
u 设备可实现6、8英寸晶圆兼容
u 设备能实现晶圆正反面的自动翻转与清洗;
u 设备可选择配置有湿进干出或者干进干出;
u 每个腔室采用独立空间,避免交叉污染;
u 腔室流场控制技术,保证废气及时排出;
u 专利刷头设计,有效避免晶圆划痕的产生;
u 刷头润湿及自清洁技术,避免引入颗粒;
u 设备集成4套、6套刷洗腔体,产能最高可达80片/小时;
u SiC片表面颗粒去除能力可达到particle(@0.3um)≤5ea;
u 多级软硬件安全互锁,操作安全
u 软件及硬件模块化设计
u 实时记录生产数据,多种数据分析功能
u 工艺柔性化设计,工艺更改方便迅速
u 设备占地面积小
u 支持扩展SMIF自动传输
u 软件支持SECS GEM接口,支持EAP MES等功能(选配)
u 多路视频监控和录像功能(选配)
u 静电消除功能(选配)
u 优化配管设置,节约DIW消耗量
u 多工艺数据库,可供用户使用和存储
u 自主知识产权的软件系统
u 拥有多项软件著作权
u PC上位机和PLC触摸屏的控制和人机交互界面
u 系统自动排程,多工位并发处理,高效率运行
u 工艺预置,过程数据记录和生产管理