半自动单腔光刻版清洗机通过浸润、Brush刷洗，配合ACE/IPA冲洗，兆声清洗，可以有效去除光刻版表面光刻胶残留，并对光刻版表面进行清洗。

设备主要由工艺腔体、升降扫描摆臂模块、刷洗摆臂模块、供排液系统、空气净化及静电消除系统、排风系统、中央控制系统等组成。工艺腔体可配置Brush刷洗、ACE清洗、IPA清洗、兆声清洗、氮气吹扫、氮气吹干、离心甩干等功能。

✨ 兼容多种规格尺寸的光刻板

✨ 分层式腔体设计

✨ 采用干进干出加工模式

✨ 化学液可循环再利用

✨ 低药液消耗

✨ 小型化设计，满足实验室需求