全自动GaN去光阻清洗机是一种专业的清洗设备,主要用于去除GaN(氮化镓)等半导体材料表面的光阻层。 全自动GaN去光阻清洗机通过集成多个清洗槽体和工序,实现了对GaN晶片的高效、精准清洗。它基于先进的清洗技术和自动化控制系统,能够确保清洗过程的稳定性和可靠性。全自动GaN去光阻清洗机广泛应用于半导体材料生产领域,特别是针对GaN等新型半导体材料的清洗需求。它能够有效去除晶片表面的光阻层和其他污垢,为后续的半导体制造工艺提供高质量的晶片表面。
1. 工作原理
全自动GAN去光阻清洗机的工作原理主要利用激光吸附、瞬时膨胀和易离化,以及冲击清理的过程进行表面清洗。其工作原理通常包含以下三个主要过程:
1) 激光吸附:将激光束照射到工件表面时,激光能量被工件表面的有机和无机杂质吸收。这些杂质吸收的激光能量将其加热至瞬态高温状态,部分燃烧成为气态,形成气体等离子体区域,从而利用这一现象将工件表面的杂质清除。
2) 瞬时膨胀和易离化:当表面杂质被加热时,它们以非常快的速度从表面膨胀开来。这个过程称为瞬时膨胀和易离化。在加热和膨胀后,杂质在空气中形成一个气囊环,达到其容量的两倍以上,同时变得容易剥离。
3) 冲击清理:利用气囊环,激光清洗机使用高压气体喷嘴来打破气囊区域,将杂质从表面冲走。这种方法使用高能激光深入杂质表面,同时对工件表面造成的破坏非常小。
2. 工作流程
生产主线为:上料台、超声循环溢流槽1、循环溢流槽2、循环溢流槽3、QDR槽4、QDR槽5、下料台,共5个制程工位。本设备电器控制部分关键件均采用进口优质件,性能可靠,使用寿命长;及背部设有吸风口,为防止污染空气,用户需外接风管抽风。本机台是一个人机界面(触摸屏)加PLC控制的自动控制系统,操作者只须将清洗花篮放置于上料工位上,再由PLC控制机械手将花篮输送到各个工位,按照事先输入的程序对晶片进行各个工位进行相应的处理。
3. 清洁能力
4 inch 2 cassette / Batch 25 Pcs/cassette;6 inch 1 cassette / Batch 25 Pcs/cassette;
4. 产品优势
1) 高效性:全自动GaN去光阻清洗机采用多槽体、多工序设计,能够一次性完成多个清洗步骤,大大提高了清洗效率。
2) 环保性:采用非接触式清洗方式,减少了对GaN晶片的磨损和损伤,同时减少了水资源的浪费和污水排放。设备还设有循环过滤和回收系统,保证了清洗溶液的清洁度,降低了生产成本。
3) 稳定性:设备采用PLC工控机程序控制,全自动输送方式,运行平稳快捷。同时,设备具有自我诊断功能,能够在出现故障时自动停机并报警,确保了生产安全。
4) 灵活性:各槽清洗时间可以根据需要进行设定和调整,以适应不同的清洗需求。
5) 高精度:对于GaN晶片的清洗,全自动GaN去光阻清洗机能够实现高精度的清洗效果,确保晶片表面的光阻层被彻底去除。
5. 产品特点
1) 工艺说明: 自动传动,自动方式实现槽体间传送工件,手臂按照菜单选择流程作业,生产部人员选取菜单进行作业,这个过程全自动进行;
2) 全程自动化控制,工艺 过程中没有人工干预,保证产品性能的一致性;
3) 搬运机械手的横向移动和纵向提升均采用日本伺服马达,闭环控制,定位精度≤1mm,可靠性高;采用双导轨结构及线性模块传动,几何曲线加减速运动,冲击小、运动平稳;
4) 搬运机械手臂单独急停、暂停开关、系统急停开关和机械手马达电机自动过载保护等多重保护,确保操作者的安全;
5) 搬运机械手运行平稳,带有过载和过流保护,工艺槽发生异常报警需将工艺槽产品放置到溢流槽保护并立即启动报警(手臂故障需要立即发出报警并不可消除);当工装出现意外情况时程序自动将药液排空注入DIW稀释救货;
6) 工艺槽设有花篮物理检测装置,防止压篮;
7) 溢流工艺的应用,保证了药液槽之间的隔离效果和清洗的高洁净度;
8) 优化配管设置,节约DIW消耗量;
9) 工艺柔性化设计,工艺更改方便迅速;多工艺数据库,可供用户使用和存储;
10) 整机在使用、运行过程中平稳、可靠、不产尘、无溢出油污等,需润滑的零件必须密封处理;
11) 整机采用PLC控制,触摸屏显示,清洗槽定温控制,过温保护及超(兆)声低液位保护;
12) 整机采用全封闭设计。设备运行峰值噪音小且操作、维护和维修方便;
13) 整机耐酸碱溶液及挥发气体的腐蚀,电器元件正常安全使用;
14) 机台设有紧急停止回路(EMO急停按钮,设备两端各一个),并按照标准设置接地保护断路器;
15) 整机前后区隔离,底板倾斜设计,便于排液,处设有漏液报警,前后区域均设水枪,确保漏液及时冲洗;
16) 清洗槽体及管路配有明显标识或防错设计,防止溶剂混用;
17) 设计合理化的排风管路,使酸碱液挥发气体的污染最小化;
18) 设备内部输水、输气管道管线布置于主体设备内部;
19) 废水按照高氟、低氟、酸碱、酸碱含醇四类排放;
20) 设备内废气总管路可用维护区水枪清洗,清洗废液流入酸碱废液总管;
21) 工艺溢流槽体都需具有外槽独立溢流方式,需采用四面溢流;如果无法实现,至少需要三面溢流;
22) 搬运机械手抓驱动部分为电机马达驱动完成动作并配有传感器实时监测,抓取部位设有防压框传感器,检测抓取成功与否;
23) 搬运机械手臂设有防夹防撞预警装置(光电传感器、机械传感器、机械装置等),以保护操作人员安全;
24) 工艺槽工作区域与机台控制外配有安全监测装置,防止搬运机械手对操作人员的意外损伤;
25) 设备后方、左右两侧需留有方便维护、维修的窗口;
26) 机台上料下料区各配水***2把;
27) 机台排风口处安装排风压力监测装置(带信号报警装置);
28) 机台总进口处(N2或CDA)安装有压力监测装置(带信号报警装置);
29) 工艺槽槽底倾斜式,便于排空;
30) 根据工艺要求选择配套UPS电源(15-20min);
31) 排风调节板根据风压可自动调节;
6. 安装及售后
1) 委派具有丰富的调试经验、业务精湛的技术人员在用户工厂现场安装、调试设备。
2) 为用户工厂操作工提供培训,培训包括正常操作、维修保养、操作问题的分析和紧急处理程序。
3) 无偿提供为期一年的技术支持与服务,一年后继续提供终身技术服务。在质保期内,提供7*24小时内电话支持服务,24小时到现场反应时间。保修期外保证在接到客户请求维修服务后24小时内到达现场。
4) 可提供随机备件、易损品及随机工具。